Компания IBM усовершенствовала технологию оптической литографии. Как утверждает компания, это позволит формировать на кремниевых пластинах линии с шагом менее 30 нанометров. В настоящее время большая часть чипов изготавливается по технологии 90- и 65-нанометров. Многие исследователи склонялись к тому, что необходимы совершенно новые методы создания микросхем, чтобы сохранить существующие темпы роста производительности микропроцессоров. Но как утверждает менеджер исследовательского центра компании IBM Роберт Аллен (Robert Allen), теперь у промышленности есть в запасе еще как минимум семь лет, прежде чем потребуется радикально менять методы изготовления чипов, сообщает Cnews